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J-GLOBAL ID：200903025619395318

逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法

Inventor： 佐藤 治 ,  顧 忠沢 ,  孟 慶波 ,  藤嶋 昭
Applicant, Patent owner： 財団法人神奈川科学技術アカデミー ,  科学技術振興事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001180892
Publication number (International publication number)：2003002687
Application date： Jun. 14, 2001
Publication date： Jan. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】 結晶化に際しての収縮率が小さく欠陥の少ない大面積の逆オパール構造を形成することができ、また、バンドギャップ(発色波長)の制御を容易とすることもできる、逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法を提供する。【解決手段】 周期的ポーラス構造のナノサイズ粒子膜を有する逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法であって、焼成時に消去される微粒子とこの微粒子よりも粒径の小さいナノサイズ粒子との懸濁溶液に基板を垂直に、もしくは傾斜させて浸漬して基板上に前記微粒子を整列させるとともに微粒子間の隙間にナノサイズ粒子を充填させて基板上に前記微粒子とナノサイズ粒子との粒子膜を形成し、次いでこの粒子膜を焼成することにより前記微粒子を消去して周期的ポーラス構造のナノサイズ粒子膜を生成させる。

Claim (excerpt)：

周期的ポーラス構造のナノサイズ粒子膜を有する逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法であって、焼成時に消去される微粒子とこの微粒子よりも粒径の小さいナノサイズ粒子との懸濁溶液に基板を垂直に、もしくは傾斜させて浸漬して基板上に前記微粒子を整列させるとともに微粒子間の隙間にナノサイズ粒子を充填させて基板上に前記微粒子とナノサイズ粒子との粒子膜を形成し、次いでこの粒子膜を焼成することにより前記微粒子を消去して周期的ポーラス構造のナノサイズ粒子膜を生成させることを特徴とする逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法。

IPC (5)：

C03C 17/23 ,  C01B 33/00 ,  C01G 23/047 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (5)：

C03C 17/23 ,  C01B 33/00 ,  C01G 23/047 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 M

F-Term (29)：

2H047PA01 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047QA07 ,  2H047TA43 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G059AA08 ,  4G059AB07 ,  4G059AB09 ,  4G059AC09 ,  4G059AC15 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB09 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072MM36 ,  4G072NN30 ,  4G072RR12 ,  4G072RR13 ,  4G072UU30