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J-GLOBAL ID：200903025621784011

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor：
堤 聖晴

About 堤 聖晴

, 
舩木 克典

About 舩木 克典


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001185580
Publication number (International publication number)：2002145955
Application date： Jun. 19, 2001
Publication date： May. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 各モノマーユニットが偏在せず、分子間や分子内で組成分布の小さい高分子化合物であって、しかも合成コストを低減できるフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用高分子化合物は、(A)ラクトン環を含有する炭素数6〜20の脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、(B)炭素数6〜20の脂環式炭化水素基を含有し且つ酸の作用により脱離可能な基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)極性の置換基を有する炭化水素基又は酸素原子含有複素環基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られる。
Claim (excerpt)：
(A)ラクトン環を含有する炭素数6〜20の脂環式炭化水素基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、(B)炭素数6〜20の脂環式炭化水素基を含有し且つ酸の作用により脱離可能な基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)極性の置換基を有する炭化水素基又は酸素原子含有複素環基がエステル結合を構成する酸素原子に結合している(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られるフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (7)：
C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  C08J 3/14 CEY ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  H01L 21/027 ,  C08L 33:04
FI (7)：
C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  C08J 3/14 CEY ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/26 501 ,  C08L 33:04 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (30)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096LA30 ,  4F070AA32 ,  4F070CA20 ,  4F070CB11 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11 ,  4J100BC09 ,  4J100BC53 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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