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J-GLOBAL ID：200903025626742236

プラズマ装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  新田 雄久 ,  平山 昌樹 ,  高野 晴之 ,  海原 竜
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP1998000364
Publication number (International publication number)：WO1998033362
Application date： Jan. 29, 1998
Publication date： Jul. 30, 1998
Summary：

【要約】本発明は、容器(100)とガス供給システムと、排気システムとを有し、前記容器を構成する壁部の一部はマイクロ波を透過できる材料からなる第1の誘導体板(102)であり、該第1の誘電体板を挟んで、該容器の外側にはマイクロ波を放射するアンテナ(201)と、該容器の内側には被処理体(104)を保持する電極(109)とを設け、該アンテナのマイクロ波の放射面と該被処理体のプラズマ処理を行う面とを平行に対向して配置したプラズマ装置において、前記第1の誘電体板以外の前記容器の壁部は、少なくともAl以上の導電率を有する材料からなる部材又は該壁部の内側が該部材で被覆されており、かつ、該部材の厚さをd、該部材の導電率をσ、真空の透磁率をμo、該アンテナから放出するマイクロ波の角振動数をωとした場合、前記dは(2/μoσω)1/2より大きい。

Claim (excerpt)：

内部が減圧可能であり、その一部がマイクロ波を略々損失なく透過できる材料からなる第1の誘電体板により構成されている容器と、 該容器内でプラズマを励起させるために必要な原料ガスを供給するガス供給システムと、 該容器内に供給された原料ガスを排気すると共に該容器内を減圧するための排気システムと、 該第1の誘電体板の外面に面して配置された、スロット板及び導波誘電体からなるマイクロ波を放射するためのアンテナと、 該容器の内側に配置された被処理体を保持するための電極と、を有し、 該アンテナのマイクロ波の放射面と該被処理体のプラズマ処理を行う面とを略々平行に対向して配置して該被処理体に対してプラズマ処理をするプラズマ装置において、 前記第1の誘電体板以外の前記容器の壁部は、3.7×107Ω-1・m-1以上の導電率を有する材質からなる部材であるかもしくは該壁部の内側が該部材で被覆されており、 かつ、 該部材の厚さをd、該部材の導電率をσ、真空の透磁率をμ0、該アンテナから放出するマイクロ波の角周波数をωとした場合、 前記dは、(2/μ0σω)12より大きいことを特徴とするプラズマ装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  C23F 4/00 ,  C23C 16/50