成分濃度測定装置および方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青山葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993189900
Publication number (International publication number)：1995043293
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】被測定物中の成分濃度を、非破壊的,無侵襲的,非観血的に、精度よく測定することを可能とした成分濃度測定装置および方法を提供する。【構成】可変波長レーザ発生装置11により、被測定物12に異なる波長のパルスレーザを照射する光照射部1と、このパルスレーザを発生した後の経過時間とともに変化する被測定物12からの透過光量を時間分解測定する受光部2と、経過時間と測定光量との関係を、被測定物12中において光が進んだ距離である光路長と単位濃度の変化に対する測定光量の変化量との関係に変換して、この変化量のピーク値が生じるときの光路長,光量を波長毎に記憶し、光量の値に基いて被測定物12中の成分濃度を算出し、算出結果を出力する演算部3とから形成してある。

Claim (excerpt)：

被測定物に異なる波長のパルス光を照射する光照射部と、上記パルス光を発生した後の経過時間とともに変化する上記被測定物からの反射光および透過光のうちの少なくともいずれか一方の光量を時間分解測定する受光部と、上記経過時間と測定光量との関係を、上記被測定物中において光が進んだ距離である光路長と単位濃度の変化に対する上記測定光量の変化量との関係に変換して、この変化量のピーク値が生じるときの光路長,光量を波長毎に記憶し、各波長における最適光路長を選択し、この最適光路長における光量値に基いて、上記被測定物中の成分濃度を算出し、算出結果を出力する演算部とから形成したことを特徴とする成分濃度測定装置。

IPC (2)：

G01N 21/27 , G01N 15/06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開平4-001556
特開昭51-151172
特開昭61-204546

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