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J-GLOBAL ID：200903025638752296

ロタキサン複合体及びその製造方法。

Inventor： 浅川 真澄 ,  秋山 めぐみ ,  清水 敏美
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002246099
Publication number (International publication number)：2004083726
Application date： Aug. 27, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】新規なロタキサン複合体及びその製造方法の提供【解決手段】一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。【化1】(I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、2価の有機基を表し、Lは、2価の有機基を表し、Xは任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。m、nは任意の数を表す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。 【化1】(I)

IPC (2)：

C08G85/00 ,  C07D323/00

FI (2)：

C08G85/00 ,  C07D323/00

F-Term (15)：

4C022NA04 ,  4J031AA41 ,  4J031AB04 ,  4J031AC05 ,  4J031AC07 ,  4J031AD01 ,  4J031BA12 ,  4J031BA29 ,  4J031CC05 ,  4J031CD09 ,  4J031CD10 ,  4J031CD12 ,  4J031CD18 ,  4J031CD22 ,  4J031CD25