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J-GLOBAL ID：200903025638752296
ロタキサン複合体及びその製造方法。
Inventor：
,
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002246099
Publication number (International publication number)：2004083726
Application date： Aug. 27, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：
【課題】新規なロタキサン複合体及びその製造方法の提供【解決手段】一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。【化1】(I)(式中、Rは、炭化水素基を表し、Yは、2価の有機基を表し、Lは、2価の有機基を表し、Xは任意の陰イオン原子を表す。ただし、前記Rは、ジベンゾ-24-クラウン-8-エーテルの内径より大きい構造をしており、クラウンエーテルから抜けることを阻止することができる大きさの構造である。m、nは任意の数を表す。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表されることを特徴とするロタキサン複合体。
【化1】(I)
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (15)：
4C022NA04
, 4J031AA41
, 4J031AB04
, 4J031AC05
, 4J031AC07
, 4J031AD01
, 4J031BA12
, 4J031BA29
, 4J031CC05
, 4J031CD09
, 4J031CD10
, 4J031CD12
, 4J031CD18
, 4J031CD22
, 4J031CD25
