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J-GLOBAL ID：200903025643960298

ネガ型電子線又はX線用化学増幅レジスト組成物

Inventor：
阿出川 豊

About 阿出川 豊


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001271992
Publication number (International publication number)：2003076020
Application date： Sep. 07, 2001
Publication date： Mar. 14, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高解像力で、ウエーハー面内線幅均一性に優れたネガ型電子線又はX線用化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】 電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ可溶性樹脂、酸により架橋する架橋剤及び有機塩基性化合物を含有するネガ型電子線又はX線用化学増幅レジスト組成物において、水分含有量を0.5重量%以下とする。
Claim (excerpt)：
(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂、(c)酸により架橋する架橋剤及び(d)有機塩基性化合物を含有するネガ型電子線又はX線用化学増幅レジスト組成物において、水分含有量が0.5重量%以下であることを特徴とするネガ型電子線又はX線用化学増幅レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/038 601 ,  C08F 12/14 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/038 601 ,  C08F 12/14 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (57)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB00P ,  4J100AB02Q ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB08Q ,  4J100AB08R ,  4J100AB09Q ,  4J100AB09R ,  4J100AE09P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL09R ,  4J100AM02Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM21P ,  4J100AQ01Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA37P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA41Q ,  4J100BB01P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC44P ,  4J100BC48P ,  4J100BC49P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA38 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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