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J-GLOBAL ID:200903025652386430
磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (3):
福田 賢三
, 福田 伸一
, 福田 武通
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003103454
Publication number (International publication number):2004310910
Application date: Apr. 07, 2003
Publication date: Nov. 04, 2004
Summary:
【課題】記録再生特性、熱揺らぎ特性を向上させ、高密度の情報記録再生を行えるようにする。【解決手段】この発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上1に少なくとも、直上の層の配向性を制御する配向制御層3と、磁化容易軸が非磁性基板1に対し主に垂直に配向した垂直磁性層4と、保護層5とが設けられた磁気記録媒体において、垂直磁性層4は、2層以上の磁性層からなり、少なくとも1層がCoを主成分とするとともにPtを含み、酸化物を含んだ層4aであり、他の少なくとも1層がCoを主成分とするとともにCrを含み、酸化物を含まない層4bからなることを特徴としている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
非磁性基板上に少なくとも、直上の層の配向性を制御する配向制御層と、磁化容易軸が非磁性基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性層と、保護層とが設けられた磁気記録媒体において、
前記垂直磁性層は、2層以上の磁性層からなり、少なくとも1層がCoを主成分とするとともにPtを含み、酸化物を含んだ層であり、他の少なくとも1層がCoを主成分とするとともにCrを含み、酸化物を含まない層からなることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (6):
G11B5/66
, G11B5/64
, G11B5/738
, G11B5/84
, G11B5/851
, H01F10/16
FI (6):
G11B5/66
, G11B5/64
, G11B5/738
, G11B5/84 Z
, G11B5/851
, H01F10/16
F-Term (29):
5D006BB01
, 5D006BB02
, 5D006BB06
, 5D006BB07
, 5D006BB08
, 5D006BB09
, 5D006CA03
, 5D006CA04
, 5D006DA03
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D006FA00
, 5D006FA09
, 5D112AA03
, 5D112AA04
, 5D112AA05
, 5D112AA06
, 5D112AA24
, 5D112BB01
, 5D112BB05
, 5D112BD03
, 5D112BD05
, 5D112BD07
, 5D112FA04
, 5D112FB02
, 5D112FB08
, 5E049AA04
, 5E049AC05
, 5E049BA08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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磁気記憶媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-077739
Applicant:富士通株式会社
-
磁気記録媒体とその製法およびそれを用いた磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-370140
Applicant:株式会社日立製作所
-
磁気記録媒体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-001928
Applicant:富士電機株式会社
-
磁気記録媒体および磁気記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-366241
Applicant:株式会社日立製作所
-
磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-066657
Applicant:富士通株式会社
-
特開平2-094109
-
光磁気記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-099946
Applicant:ティーディーケイ株式会社
-
垂直磁気記録媒体とその製法および磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-210701
Applicant:株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社
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