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J-GLOBAL ID：200903025662558891

膜形成装置

Inventor： 松永 幸二
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177691
Publication number (International publication number)：2001011608
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ輸送時に粗大粒子を除去する磁気フィルタを改善して、そのプラズマ輸送効率を高くする。【解決手段】 この膜形成装置は、真空アーク蒸発源12と成膜室2との間に、プラズマ22を輸送すると共に当該プラズマ22中から粗大粒子を除去する磁気フィルタ24aを備えている。この磁気フィルタ24aは、湾曲した輸送管26と、この輸送管26の内面近傍を覆う複数のカスプ磁場を形成する複数の永久磁石34とを備えて成る。

Claim (excerpt)：

基体を収納して真空排気される成膜室と、真空アーク放電によって陰極を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、この真空アーク蒸発源によって生成したプラズマを磁場によって湾曲させて粗大粒子を除去して前記成膜室内の基体の近傍に導く磁気フィルタとを備える膜形成装置において、前記磁気フィルタが、湾曲した輸送管と、この輸送管の内面近傍を覆う複数のカスプ磁場を形成する複数の永久磁石とを備えて成ることを特徴とする膜形成装置。

F-Term (6)：

4K029BC02 ,  4K029BD03 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06