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J-GLOBAL ID：200903025665923167

X線マスクの製造方法

Inventor： 丸本 健二 ,  綾 淳 ,  矢部 秀毅 ,  橋本 素子 ,  松井 安次
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991335120
Publication number (International publication number)：1993165198
Application date： Dec. 18, 1991
Publication date： Jun. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、X線マスクの製造工程を簡略化することを目的とするものである。【構成】 メンブレン材薄膜2aのエッチング工程及びシリコンウエハ1のバックエッチング工程の前に、シリコンウエハ1を支持枠4に接合して、支持枠4をエッチングマスクとして利用するようにした。

Claim (excerpt)：

メンブレン材薄膜が両面に成膜されたウエハを支持枠に接合した後、前記支持枠をマスクとして前記メンブレン材薄膜のエッチングを行うことを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027