Pat

J-GLOBAL ID：200903025675228092

投影露光装置

Inventor： 宮地 敬
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995198184
Publication number (International publication number)：1997027448
Application date： Jul. 11, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】 フォーカス制御の整定時間を短縮することができると共に、感光基板の周縁部を露光する際に感光基板の走査方向が外側から内側への方向である場合の感光基板表面の面積利用効率を向上させる。【構成】 基板Wの周縁部を露光する際に基板Wの走査方向が外側から内側への方向である場合、走査方向で露光領域に先行する位置に配置されたセンサB及びエッジ検出部28により基板Wのエッジ及びそのエッジ検出ポイントの投影光学系の光軸方向の位置を検出する。そして、調整手段(29、31、21A,22A,23A、10)ではエッジ検出ポイントの光軸方向の位置及びテーブル10の傾斜Θy に基づいて、エッジ検出時からフォーカスセンサAによる合焦開始までの間に基板W表面の光軸方向の位置を調整する。

Claim (excerpt)：

感光基板の露光範囲内の投影光学系の光軸方向位置を検出し、前記感光基板表面の照野範囲を投影光学系の結像面に一致させるように前記感光基板が搭載された基板テーブルの前記光軸方向の位置及び光軸方向に対する傾斜を調整する合焦手段を備えた投影露光装置であって、前記基板テーブルの所定の走査方向で露光領域に先行する位置に配置された前記感光基板のエッジを検出するエッジ検出手段と;前記エッジ検出手段が前記感光基板のエッジを検出すると同時にそのエッジ検出ポイントの前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する高さ検出手段と;前記エッジ検出手段及び高さ検出手段からの情報に基づいてエッジ検出時から前記合焦手段による合焦開始までの間に前記感光基板表面の光軸方向の位置を調整する調整手段とを有する投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02

FI (3)：

H01L 21/30 526 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H