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J-GLOBAL ID：200903025675467771

ジアミノ化合物およびその製造方法

Inventor： 澤井 俊哉 ,  及川 清二 ,  矢沢 昌明 ,  村田 鎮男 ,  早川 雅治 ,  中川 悦男 ,  澤田 信一
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社
Agent (1)： 野中 克彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994281256
Publication number (International publication number)：1996119909
Application date： Oct. 20, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【目的】 残像現象がなく、低温から高温にわたって高い電圧保持率を持つ液晶配向膜が得られる原料ポリイミド樹脂を得るのに適したジアミノ化合物及びその製造方法を提供することである。【構成】 一般式(1)【化1】(式中R11、R12、R13、R14、R21、R22,R23、R24、R31、R32、R33、R34はそれぞれ独立に水素又は炭素数1から8のアルキル基、nは0又は1を表す)で表されるジアミノ化合物及びその製造方法より構成される。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中R11、R12、R13、R14、R21、R22、R23、R24、R31、R32、R33、R34はそれぞれ独立に水素または炭素数1から8のアルキル基、nは0または1を表す。)で表されるジアミノ化合物。

IPC (3)：

C07C211/50 ,  C07C209/36 ,  C09K 19/52