Pat
J-GLOBAL ID:200903025680520893
フォトレジスト
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
津国 肇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996325083
Publication number (International publication number):1997179303
Application date: Dec. 05, 1996
Publication date: Jul. 11, 1997
Summary:
【要約】【課題】 サブミクロンおよびサブ半ミクロンの寸法の像を含む高い解像力を有する細線の画像を提供することができる新規な化学増幅型フォトレジスト組成物を得ることが望ましい。さらに、ディープUVによってイメージングする。【解決手段】 1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt):
1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent: