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J-GLOBAL ID：200903025704751166

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997053583
Publication number (International publication number)：1998254136
Application date： Mar. 07, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外光、とりわけArFエキシマレーザー光源に対して吸光度が低く、したがって高感度であり、それに伴ってフォーカス許容度、解像力、パタ-ンプロファイルの優れたフォトレジスト組成物の開発を目的とする。【解決手段】 ハロゲン原子が置換し、かつ3級炭素を有する特定構造の酸分解性基を含む単量体を繰り返し単位の一つとする重合体及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、該酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が下記一般式〔I〕で表される単量体を繰り返し構造単位の一つとして含有する重合体であることを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子又はメチル基を表し、R2 〜R4 は同じでも異なってもよく水素原子又はアルキル基を表す。また、R5 及びR6 は同じでも異なってもよく水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Xは、ハロゲン原子である。Aは、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エ-テル基、エステル基、チオエーテル基、カルボニル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基及びウレア基よりなる群から選ばれる1つの基もしくはそれらの2つ以上を組み合わせた基を表す。mは1、2又は3、nは、0、1又は2、mとnの和は3を表す。)

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/00 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/00 503 ,  H01L 21/30 502 R