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J-GLOBAL ID：200903025717554149

レーザ加熱装置

Inventor： 小林 裕
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 倉内 義朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996252649
Publication number (International publication number)：1998094892
Application date： Sep. 25, 1996
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光源に高出力半導体レーザを用いた加熱装置で、一度に大きな面積を均一に加熱することが可能なレーザ加熱装置を提供する。【解決手段】 高出力半導体レーザ1のレーザ光出射側に、コリメートレンズ2aとシリンドリカルレンズ2bで構成される光学系2を設けて、出射レーザ光の単一基本モードとなるNFP縦方向(垂直横モード)を目的とする長さまで拡大するとともに、多モードとなるNFP横方向を(水平横モード)を絞ってその強度分布を圧縮する、といったビーム整形を行うことで、長手方向の強度分布が均一な線状ビームを得る。

Claim (excerpt)：

高出力半導体レーザと、その出射レーザ光を整形するための光学系からなり、その光学系には、高出力半導体レーザから出射されたレーザ光を矩形状に集光するコリメートレンズと、コリメート光を集光するシリンドリカルレンズが設けられているとともに、そのシリンドリカルレンズは、円柱面の母線が上記半導体レーザのレーザ光出射端面での光強度分布の長手方向に対し90度回転した状態で配置されていることを特徴とするレーザ加熱装置。

IPC (6)：

B23K 26/06 ,  B23K 1/005 ,  B23K 26/00 ,  G02B 27/09 ,  H05K 3/34 507 ,  H01S 3/00

FI (7)：

B23K 26/06 E ,  B23K 1/005 D ,  B23K 26/00 Z ,  B23K 26/00 H ,  H05K 3/34 507 E ,  H01S 3/00 B ,  G02B 27/00 E