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J-GLOBAL ID：200903025733768981

光学エレクトロウェッティング装置

Inventor： メラール,マチュ ,  リオギエール・ダルデュイ,ガエタン ,  レグラン,ジュリアン ,  ベルジュ,ブルーノ
Applicant, Patent owner： バリオプテイツク
Agent (7)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008552910
Publication number (International publication number)：2009525502
Application date： Jan. 31, 2007
Publication date： Jul. 09, 2009
Summary：

本発明に係る光学エレクトロウェッティング装置は、導電性流体(5;101)及び非導電性流体(4;102)(流体は混ざり合わない)と、絶縁性基材(2,103)とを備え、該基材上で両流体が接触して三相界面を形成しており、該導電性流体(101)の存在下で基材(103)上にある非導電性流体(102)の固有の接触角(105)が0°〜約20°である。この装置は、可変焦点液体レンズ、光学絞り、光学ズームとすることができる。さらに本発明は、カメラ、携帯電話、内視鏡、又は歯科用ビデオカメラなどの装置に関し、該装置は、エレクトロウェッティング装置と、レンズを制御するための駆動装置又は電子手段とを備える。

Claim (excerpt)：

導電性流体(5;101)および非導電性流体(4;102)(前記両流体は混ざり合わない)と、絶縁性基材(2;103)とを備え、絶縁性基材上で両流体が接触して三相界面を形成しており、導電性流体(101)の存在下で絶縁性基材(103)上にある非導電性流体(102)の固有の接触角(105)が0°〜約20°である、光学エレクトロウェッティング装置。

IPC (5)：

G02B 26/00 ,  G02B 3/12 ,  G02B 7/09 ,  G03B 9/02 ,  G02B 26/02

FI (5)：

G02B26/00 ,  G02B3/12 ,  G02B7/11 P ,  G03B9/02 E ,  G02B26/02 H

F-Term (8)：

2H051FA01 ,  2H051FA60 ,  2H080AA03 ,  2H141MA09 ,  2H141MB37 ,  2H141MB43 ,  2H141MC06 ,  2H141MF02