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J-GLOBAL ID:200903025746759868

X線光源装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 篠原 泰司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991257640
Publication number (International publication number):1993101797
Application date: Oct. 04, 1991
Publication date: Apr. 23, 1993
Summary:
【要約】【目的】 X線を分光して利用するレーザープラズマ光源装置において分光されたX線の光量の変動が少なく安定性に優れたX線分光システムを実現し得るX線光源装置を提供することである。【構成】 真空容器2内に配置したターゲット物質6にレーザー光を照射し、該ターゲット物質6をプラズマ状態化してX線を発生させるようにしたX線光源装置において、上記ターゲット物質6は、原子番号が19よりも大きい元素から成ることを特徴とする。
Claim (excerpt):
真空容器内に配置したターゲット物質にレーザー光を照射し、該ターゲット物質をプラズマ状態化してX線を発生させるようにしたX線光源装置において、上記ターゲット物質は、原子番号が19よりも大きい元素から成ることを特徴とするX線光源装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-112498
  • 特開昭57-150000

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