Pat

J-GLOBAL ID：200903025783978219

ポジ型フォトレジストの安定保存方法

Inventor： 市川 幸司 ,  新留 訓 ,  長瀬 恭子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997278569
Publication number (International publication number)：1999119425
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジストを長期間保存しても品質変化があまり起こらないようにして、安定的に長期間保存しうる方法を提供する。【解決手段】 ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解してなるポジ型フォトレジストに、ベンジリデン骨格を有する感光剤安定剤、例えば下式(II)(式中、Q1 、Q2 およびQ3 は互いに独立に、水素、水酸基、アルキルまたはアルコキシを表し、Q4 はアルキルを表し、Xはシアノまたはアルコキシカルボニルを表す)で示される化合物を含有させることにより、当該フォトレジストを安定的に保存する。

Claim (excerpt)：

ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解してなるポジ型フォトレジストに、ベンジリデン骨格を有する感光剤安定剤を含有させることを特徴とする、当該フォトレジストを安定的に保存する方法。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501

FI (2)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ポジ型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-167261   Applicant：東京応化工業株式会社
• 特開平2-275453