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J-GLOBAL ID：200903025785357033

励起窒素発生装置及び方法

Inventor： 石黒 孝 ,  広島 安 ,  深津 憲一
Applicant, Patent owner： 株式会社レーザー応用工学研究所
Agent (1)： 関 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998276680
Publication number (International publication number)：2000103607
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Apr. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 真空容器の壁面や放電電極からの不純物が混入しない純粋な励起窒素含有窒素を発生させて、これを単独に供給することにより、反応相手を自由に選択できるような励起窒素発生装置および方法を提供する。【解決手段】 真空容器2内に設けたガス冷却面9の表面にガス導入口10から供給される窒素ガスを凝固して窒素凝集体層20を生成し、窒素励起用レーザ12とアブレーション用レーザ13をこの順にレーザ導入窓11を介して真空容器内に導入し、固体窒素層20のほぼ同じ位置に照射することにより励起窒素を多量に含む窒素アブレーション粒子21を放出させる。

Claim (excerpt)：

レーザ導入窓とガス導入口とガス冷却面を備えた真空容器と、窒素励起用レーザ発生装置と、アブレーション用レーザ発生装置とを備えた励起窒素発生装置であって、前記ガス冷却面が前記真空容器内にあって前記ガス導入口から供給される窒素ガスを凝固して窒素凝集体層を生成し、前記窒素励起用レーザ発生装置と前記アブレーション用レーザ発生装置でそれぞれ発生するレーザが前記レーザ導入窓を介して前記窒素凝集体層のほぼ同じ位置に照射するように配設することを特徴とする励起窒素発生装置。

IPC (4)：

C01B 21/00 ,  C01B 21/06 ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/203

FI (4)：

C01B 21/00 ,  C01B 21/06 Z ,  C23C 14/28 ,  H01L 21/203 Z

F-Term (10)：

4K029BA58 ,  4K029CA04 ,  4K029DB20 ,  5F103AA10 ,  5F103BB09 ,  5F103BB23 ,  5F103DD30 ,  5F103NN01 ,  5F103NN07 ,  5F103RR06