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J-GLOBAL ID：200903025794372428

洗浄剤組成物

Inventor： 篠原 明 ,  牛山 広俊 ,  木村 明
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 臼村 文男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993128465
Publication number (International publication number)：1994313189
Application date： Apr. 30, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 (A)炭素数1〜6のアルコールのアルキレンオキシド付加物、(B)炭素数8〜25のアルコールまたはアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物および(C)化1の第4級アンモニウムハイドライド類(テトラメチルアンモニウムハイドライド等)を含有する洗浄剤組成物。【効果】 浸透性の向上により洗浄性能が飛躍的に改善され、洗浄剤濃度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を緩和することができ、また、スプレー圧、撹拌力、超音波照射強度・時間等の洗浄時に必要な物理力を低減できる。多量の加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗浄性能が向上し、複雑な構造をもつ精密機器部品に対する洗浄性能も向上した。【化1】(R3〜R6:水素または炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはアルケニル基)

Claim (excerpt)：

下記の(A),(B)および(C)成分を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。(A) 化1の一般式(I)で表わされる化合物【化1】R1-O-(A1O)n-H ...(I)(R1 :炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはフェニル基A1 :炭素数2〜4のアルキレン基n:1〜6)(B) 化2の一般式(II)で表わされる化合物【化2】R2-O-(A2O)m-H ...(II)(R2 :炭素数8〜25のアルキル基、アルケニル基、アルキルフェニル基またはアルケニルフェニル基A2 :炭素数2〜4のアルキレン基m:5〜25)(C) 化3の一般式(III) で表わされる第4級アンモニウムハイドライド類【化3】(R3〜R6:水素または炭素数1〜4のアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはアルケニル基)

IPC (7)：

C11D 1/72 ZAB ,  B23K 1/00 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/60 ,  C23G 5/032 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32