電子材料の洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999139536
Publication number (International publication number)：2000331977
Application date： May. 20, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】オゾン溶解洗浄水の洗浄力を高めて、電子材料表面に付着した有機物汚染を効果的に除去することができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】電子材料をオゾン溶解洗浄水で洗浄するに際して、オゾン溶解洗浄水が電子材料と接触するとき又はその直前若しくは直後に、オゾン溶解洗浄水に還元性物質を混合することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

電子材料をオゾン溶解洗浄水で洗浄するに際して、オゾン溶解洗浄水が電子材料と接触するとき又はその直前若しくは直後に、オゾン溶解洗浄水に還元性物質を混合することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 647 , B08B 3/08 , C11D 7/02

FI (3)：

H01L 21/304 647 Z , B08B 3/08 Z , C11D 7/02

F-Term (16)：

3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201AB34 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB98 , 3B201CC01 , 3B201CC13 , 3B201CC21 , 4H003BA12 , 4H003DA15 , 4H003EA31 , 4H003ED02 , 4H003EE02 , 4H003EE03 , 4H003FA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-303627 Applicant：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック
凹状構造空間への液体の充填方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-257049 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
半導体等製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-064018 Applicant：株式会社フロンテック

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