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J-GLOBAL ID：200903025849462065
投影露光装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992319138
Publication number (International publication number)：1994045227
Application date： Oct. 07, 1983
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 投影露光装置をチャンバー内に収納した上で、さらにステージ位置決め精度を向上させる。【構成】 ステージ位置計測用のレーザ干渉計(11)の光路の揺らぎを小さくするために、チャンバー用空調装置(18)とは別に、ステージとレーザ干渉計の周囲に積極的に温度制御された気体を流す送風部材(30)を設けた。
Claim (excerpt)：
転写すべきパターンが形成されたマスクを照明する照明系と、該マスクのパターンの像を感光基板へ結像投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して2次元移動するステージと、該ステージの位置を測定するレーザ干渉計とを備えた投影露光装置において、前記マスク、前記投影光学系、前記ステージ、及び前記レーザ干渉計を外気から遮蔽して収納するチャンバーと;該チャンバー内の全体に清浄な気体を供給するとともに、該気体を所定温度に制御するチャンバー用気体制御手段と;前記レーザ干渉計の光路の揺らぎを低減するために、前記チャンバー用気体制御手段から供給される気体の一部を、前記ステージと前記レーザ干渉計との周囲に積極的に流す送風部材とを設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
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