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J-GLOBAL ID：200903025868852010

液体攪拌デバイス

Inventor：
村上 峰雪

About 村上 峰雪


Applicant, Patent owner：
オリンパス株式会社

About オリンパス株式会社


Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004067945
Publication number (International publication number)：2005257406
Application date： Mar. 10, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：
【課題】簡易な構造で液体を撹拌することが可能な液体攪拌デバイスを提供すること。【解決手段】液体中に流れを発生させて攪拌する液体攪拌デバイス2は、音波を発生する音波発生体3と、音波発生体3が発生した音波を伝達すると共に、少なくとも一部が液体と接触し、液体と接触する部分において音波を液体に向けて放出する伝達部2bとを有し、液体に向けて放出される音波によって液体に局部的な流れを発生させて液体を攪拌する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
液体中に流れを発生させて攪拌する液体攪拌デバイスであって、 音波を発生する音波発生体と、 前記音波発生体が発生した音波を伝達すると共に、少なくとも一部が前記液体と接触し、前記液体と接触する部分において前記音波を液体に向けて放出する伝達部と、を有し、 前記液体に向けて放出される音波によって前記液体に局部的な流れを発生させて前記液体を攪拌することを特徴とする液体攪拌デバイス。
IPC (2)：
G01N35/02 ,  B01F11/00
FI (2)：
G01N35/02 D ,  B01F11/00 Z
F-Term (3)：
2G058FA01 ,  2G058GB10 ,  4G036AB30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 撹拌装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-042840   Applicant：株式会社東芝
  • 化学分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-030203   Applicant：株式会社日立製作所
Cited by examiner (3)
  • 特開昭64-038133
  • 化学分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-328141   Applicant：株式会社日立製作所
  • 浴槽水循環浄化装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-063706   Applicant：東陶機器株式会社

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