Pat
J-GLOBAL ID:200903025873506251

成膜装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992267596
Publication number (International publication number):1994120153
Application date: Oct. 06, 1992
Publication date: Apr. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 膜厚分布、膜質分布の偏りを小さくし、デバイス特性の均一性および歩留りを向上することのできる成膜装置を実現すること。【構成】 真空チャンバー内に、基板を保持するアノード電極と、アノード電極と対向配置されて原料ガスを分散するカソード電極とを設け、アノード電極およびカソード電極間にグロー放電を発生させてカソード電極にて分散された原料ガスが分解することにより生ずる分解生成物をアノード電極上に保持された基板表面に堆積させる成膜装置において、カソード電極は複数の領域に分離されており、カソード電極の分離された各領域をそれぞれ囲む複数の筒状部材と、各筒状部材のそれぞれをアノード電極に向けて移動させ、アノード電極または該アノード電極上に保持された基板と電気的に接続させ、複数の放電空間を形成させる駆動機構とを有する。
Claim (excerpt):
真空チャンバー内に、基板を保持するアノード電極と、アノード電極と対向配置されて原料ガスを分散するカソード電極とを設け、前記アノード電極およびカソード電極間にグロー放電を発生させてカソード電極にて分散された原料ガスが分解することにより生ずる分解生成物をアノード電極上に保持された基板表面に堆積させる成膜装置において、前記カソード電極は複数の領域に分離されており、前記カソード電極の分離された各領域をそれぞれ囲む複数の筒状部材と、前記各筒状部材のそれぞれを前記アノード電極に向けて移動させ、アノード電極または該アノード電極上に保持された基板と電気的に接続させ、複数の放電空間を形成させる駆動機構とを有することを特徴とする成膜装置。
IPC (3):
H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  C23C 16/50

Return to Previous Page