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J-GLOBAL ID：200903025887848155

高周波洗浄装置

Inventor： 柴 一彦 ,  西澤 久雄 ,  内田 博章
Applicant, Patent owner： 株式会社プレテック ,  大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996264175
Publication number (International publication number)：1998109072
Application date： Oct. 04, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 洗浄槽内の洗浄液に浸漬した被洗浄物を高周波音波により洗浄する際の逆汚染等を防止することが可能な高周波洗浄装置を提供するものである。【解決手段】 被洗浄物に対して洗浄を施す洗浄液3が収容された洗浄槽1と、前記洗浄液3に高周波音波を付与する高周波音波付与手段とを具備した高周波洗浄装置において、溶存ガス濃度が制御された洗浄液を生成する洗浄液生成手段9を前記洗浄槽1に連結することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

被洗浄物に対して洗浄を施す洗浄液が収容された洗浄槽と、前記洗浄液に高周波音波を付与する高周波音波付与手段とを具備した高周波洗浄装置において、溶存ガス濃度が制御された洗浄液を生成する洗浄液生成手段を前記洗浄槽に連結することを特徴とする高周波洗浄装置。

IPC (3)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3)：

B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 L