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J-GLOBAL ID：200903025908206175

透明被膜形成用塗布液、透明被膜付基材および表示装置

Inventor： 小 柳 嗣 雄 ,  小 松 通 郎 ,  城 野 勝 博
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999319862
Publication number (International publication number)：2001139883
Application date： Nov. 10, 1999
Publication date： May. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】透明性に優れるとともに、安定性に優れ、基材との密着性、膜強度、反射防止性能、耐薬品性等に優れた透明被膜を形成可能な被膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 ケイ素化合物、チタニウム化合物、ジルコニウム化合物またはこれらの加水分解物から選ばれる1種以上からなるマトリックス形成成分と、酸化アンチモン微粒子とを含む透明被膜形成用塗布液。基材と、該基材表面に形成された透明被膜とを有し、該透明被膜が該透明被膜形成用塗布液を、基材表面に塗布・乾燥されてなり、かつ透明被膜の屈折率が、前記基材の屈折率よりも低いことを特徴とする透明被膜付基材。基材と、該基材表面に形成された透明導電性微粒子層と、該透明導電性微粒子層表面に形成された透明被膜とを有し、該透明被膜が、前記透明被膜形成用塗布液を、基材表面に塗布・乾燥されてなり、かつ前記透明被膜の屈折率が、前記透明導電性微粒子層の屈折率よりも低いことを特徴とする透明被膜付基材。

Claim (excerpt)：

ケイ素化合物、チタニウム化合物、ジルコニウム化合物またはこれらの加水分解物から選ばれる1種以上からなるマトリックス形成成分と、酸化アンチモン微粒子とを含む透明被膜形成用塗布液。

IPC (5)：

C09D183/00 ,  C09D185/00 ,  G09F 9/00 307 ,  H01J 9/20 ,  H01J 29/88

FI (5)：

C09D183/00 ,  C09D185/00 ,  G09F 9/00 307 Z ,  H01J 9/20 A ,  H01J 29/88

F-Term (41)：

4J038AA011 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DM021 ,  4J038HA211 ,  4J038HA216 ,  4J038HA441 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038NA01 ,  4J038NA20 ,  5C028AA02 ,  5C028AA03 ,  5C028AA05 ,  5C028AA07 ,  5C032AA01 ,  5C032AA06 ,  5C032AA07 ,  5C032DD02 ,  5C032DE01 ,  5C032DF01 ,  5C032DF02 ,  5C032DF03 ,  5C032DF04 ,  5C032DG01 ,  5C032DG02 ,  5C032DG06 ,  5C032DG10 ,  5G435AA01 ,  5G435AA08 ,  5G435AA14 ,  5G435BB02 ,  5G435BB03 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435GG32 ,  5G435GG33 ,  5G435HH02 ,  5G435HH03 ,  5G435HH05 ,  5G435KK07