Pat
J-GLOBAL ID:200903025911014520
パターン検査方法及びパターン検査装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996302807
Publication number (International publication number):1998141930
Application date: Nov. 14, 1996
Publication date: May. 29, 1998
Summary:
【要約】【課題】 パターンの突起、欠損、断線又は短絡を高速に検査する。【解決手段】 被測定パターンのCADデータから第1のマスタパターンを作成する(ステップ102)。第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に縮小して欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成し、第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に拡大して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成する(ステップ103)。被測定パターンと第2、第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出する(ステップ107)。欠陥を含む所定の領域について、被測定パターンと第1のマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンを検査する(ステップ108)。
Claim (excerpt):
被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品から作成した第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に縮小して、欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成すると共に、前記第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に拡大して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成し、被測定パターンと第2のマスタパターンの論理積をとると共に被測定パターンと第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出し、この欠陥を含む所定の領域について、被測定パターンと第1のマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (5):
G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/60 311
, H01L 21/66
, H05K 3/00
FI (5):
G01B 11/24 K
, H01L 21/60 311 W
, H01L 21/66 J
, H05K 3/00 V
, G06F 15/62 405 A
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page