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J-GLOBAL ID:200903025911014520

パターン検査方法及びパターン検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996302807
Publication number (International publication number):1998141930
Application date: Nov. 14, 1996
Publication date: May. 29, 1998
Summary:
【要約】【課題】 パターンの突起、欠損、断線又は短絡を高速に検査する。【解決手段】 被測定パターンのCADデータから第1のマスタパターンを作成する(ステップ102)。第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に縮小して欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成し、第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に拡大して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成する(ステップ103)。被測定パターンと第2、第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出する(ステップ107)。欠陥を含む所定の領域について、被測定パターンと第1のマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンを検査する(ステップ108)。
Claim (excerpt):
被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品から作成した第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に縮小して、欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成すると共に、前記第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に拡大して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成し、被測定パターンと第2のマスタパターンの論理積をとると共に被測定パターンと第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出し、この欠陥を含む所定の領域について、被測定パターンと第1のマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (5):
G01B 11/24 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/60 311 ,  H01L 21/66 ,  H05K 3/00
FI (5):
G01B 11/24 K ,  H01L 21/60 311 W ,  H01L 21/66 J ,  H05K 3/00 V ,  G06F 15/62 405 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭62-262192

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