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J-GLOBAL ID：200903025917196786

混合クリーニングガス組成物

Inventor： 毛利 勇 ,  藤井 正 ,  小林 義幸
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 坂本 栄一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992329679
Publication number (International publication number)：1994173012
Application date： Dec. 09, 1992
Publication date： Jun. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】HFガスとClF3 ガスの混合ガスを使用して、アルコキシシランを原料としたCVD法により薄膜形成装置の目的以外の場所に堆積したSiO2 および非完全分解生成物をクリーニング処理する混合ガス組成物を提供する。【構成】CVD法により薄膜形成装置または該装置の治具、配管等に堆積したアルコキシシラン非完全分解生成物およびSiO2 を除去する際、特に式(I)で求められる範囲の混合クリーニングガス組成物とする。

Claim (excerpt)：

一般式(I)【数1】で示す範囲のHFガスとClF3 ガスを含む混合クリーニングガス組成物。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  C09K 13/08 ,  C23F 4/00