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J-GLOBAL ID：200903025962705632

シリコン膜形成方法およびインクジェット用インク組成物

Inventor： 関 俊一 ,  下田 達也 ,  宮下 悟 ,  古沢 昌宏 ,  湯田坂 一夫 ,  松木 安生 ,  竹内 安正
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社 ,  ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2000001987
Publication number (International publication number)：WO2000059014
Application date： Mar. 29, 2000
Publication date： Oct. 05, 2000
Summary：

【要約】シリコン前駆体を含有するインク組成物(11)をインクジェットヘッド(12)により基板上の所定領域に選択的に吐出し、シリコン前駆体のパターンを形成した後、熱及び/または光処理を施し、該シリコン前駆体をアモルファス状のシリコン膜又は多結晶シリコン膜に変換する。こうして、大面積上に、省エネルギー且つ低コストでシリコン膜パターンを得る。

Claim (excerpt)：

ケイ素化合物を含有するインク組成物をインクジェット法により基板上にパターン塗布することを特徴とするシリコン膜形成方法。

IPC (2)：

H01L 21/208 ,  C01B 33/02

FI (2)：

H01L 21/208 Z ,  C01B 33/02