フォトマスクの使用方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山田勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005111245
Publication number (International publication number)：2006294753
Application date： Apr. 07, 2005
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：

【課題】荷電粒子のフォトマスク表面への付着を防止し、コントラストが高いパターン転写とパターン欠陥のないパターン転写が可能な、フォトマスクの使用方法を提供する。【解決手段】石英基板21上に遮光材料からなるマスクパターン22を有し、該マスクパターン側のフォトマスク表面が十分な透過光量を確保できる膜厚の導電膜23によって被覆され、前記フォトマスク表面の電位に勾配が生じないように構成されたフォトマスク20において、前記導電膜の電位を電位制御回路24により外部から制御する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

フォトマスク基板上に遮光材料からなるマスクパターンを有し、該マスクパターン側のフォトマスク表面が十分な透過光量を確保できる膜厚の導電膜によって被覆され、前記フォトマスク表面の電位に勾配が生じないように構成されたフォトマスクにおいて、前記導電膜の電位を外部から制御することを特徴とするフォトマスクの使用方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/14 , G03F 7/20

FI (3)：

H01L21/30 515F , G03F1/14 G , G03F7/20 521

F-Term (5)：

2H095BA02 , 2H095BC16 , 5F046BA03 , 5F046CB17 , 5F046DA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

フォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-220420 Applicant：ユー・エム・シー・ジャパン株式会社

Cited by examiner (6)

特開平4-045447
特開昭62-104034
特開平4-045447

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