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J-GLOBAL ID：200903025999046485

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Inventor： アントニウス テオドルス アンナ マリア デルクセン ,  シュオエルド ニコラース ラムベルトゥス ドンデルス ,  クリスティアーン アレクサンデル ホーゲンダム ,  ヨエリ ロフ ,  エリク ローロフ ロープストラ ,  イエローン ヨハンネス ソフィア マリア メルテンス ,  ヨハンネス カタリヌス フベルトゥス ムルケンス ,  ティモテウス フランシスカス センゲルス ,  アレクサンデル ストラーイユエール ,  ボブ ストレーフケルク
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003417261
Publication number (International publication number)：2004289128
Application date： Nov. 11, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ投影装置において、液体供給系が、リソグラフィ投影装置の投影系の最後の要素と基板の間の空間に液体を保持する。基板交換時に、液体供給系の中の液体を基板に代わって封じ込めるシャッタ部材が提供される。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

-放射投影ビームを供給する放射系と、 -所望のパターンに従って投影ビームにパターンを付与する働きをするパターン形成手段を支持する支持構造と、 -基板を保持する基板テーブルと、 -パターンが付与された投影ビームを基板の標的部分に投影する投影系と、 -前記投影系の最後の要素と前記基板の間の空間に浸液を供給する液体供給系と を備えたリソグラフィ投影装置であって、 前記基板が前記投影系の下から移動して前記投影系から離れたときに、前記最後の要素を液体と接触した状態に維持する手段をさらに備えていることを特徴とする装置。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

F-Term (5)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB06 ,  5F046CB26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 液浸式投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
• 液浸型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン

Cited by examiner (2)

• 液浸式投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
• 液浸型露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121757   Applicant：株式会社ニコン