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J-GLOBAL ID：200903026004623430

フォトレジスト用ポリマーとその製造法

Inventor：
渡邊 仁志

About 渡邊 仁志

, 
早水 秀隆

About 早水 秀隆


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002034897
Publication number (International publication number)：2003231721
Application date： Feb. 13, 2002
Publication date： Aug. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の調製の際、溶剤に容易に且つ確実に溶解させることのできるフォトレジスト用ポリマーを得る。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用ポリマーは、(A)ラクトン骨格を含む繰り返し単位、(B)酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位、及び(C)ヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位から選択された少なくとも1種の繰り返し単位を有するフォトレジスト用ポリマーであって、試料1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4gに25°Cで24時間攪拌溶解させたときの不溶分が1重量%以下であることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
(A)ラクトン骨格を含む繰り返し単位、(B)酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位、及び(C)ヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位から選択された少なくとも1種の繰り返し単位を有するフォトレジスト用ポリマーであって、試料1gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4gに25°Cで24時間攪拌溶解させたときの不溶分が1重量%以下であることを特徴とするフォトレジスト用ポリマー。
IPC (4)：
C08F220/28 ,  C08F 6/00 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601
FI (4)：
C08F220/28 ,  C08F 6/00 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601
F-Term (23)：
2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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