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J-GLOBAL ID:200903026006970600
酸化物超電導導体およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994100421
Publication number (International publication number):1995037444
Application date: May. 16, 1994
Publication date: Feb. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 高い臨界電流値を有し、安定した電流輸送を行なうことができる、酸化物超電導導体およびその製造方法を提供する。【構成】 フレキシブルなテープ基板1とテープ基板1上に形成された中間層2と、中間層2上に形成された酸化物超電導膜3と、酸化物超電導膜3上に形成された、厚さが0.5μm以上の金または銀からなる膜4とを備える。
Claim (excerpt):
フレキシブルなテープ基板と、前記テープ基板上に形成された中間層と、前記中間層上に形成された酸化物超電導膜と、前記酸化物超電導膜上に形成された、熱膨張係数が1×10-5/K〜5×10-5/Kの値を有し、かつ耐酸化性の金属からなる、厚さが0.5μm以上の保護層とを備える、酸化物超電導導体。
IPC (5):
H01B 12/06 ZAA
, C01G 1/00
, C01G 3/00 ZAA
, C30B 29/22 501
, H01B 13/00 565
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平2-232381
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特開平1-120715
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特開平4-124002
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酸化物超電導体複合材料及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-215262
Applicant:日立化成工業株式会社
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特開平4-137799
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