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J-GLOBAL ID：200903026073036202

高純度シリコン粉末の製造方法

Inventor： 三島 昭史 ,  杉内 幸也 ,  坂口 修一
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992169531
Publication number (International publication number)：1994016411
Application date： Jun. 26, 1992
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高純度で微細なシリコン粉末を製造する。【構成】 塊状Siに圧力を加えて微小クラックを生成させた後に粉砕する。【効果】 微細かつ高純度なシリコン粉末を得ることができ、酸洗、水洗、真空乾燥を施す必要がなく、製造工程が簡略化され、製造コストを低減することができるばかりでなく、Si粉体の凝集を防止することができる。

Claim (excerpt)：

塊状Siに圧力を加えて微小クラックを生成させた後に粉砕することを特徴とする高純度シリコン粉末の製造方法。

IPC (2)：

C01B 33/02 ,  B02C 17/00