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J-GLOBAL ID：200903026136484367

感光性組成物のパターン形成方法

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995026994
Publication number (International publication number)：1996222508
Application date： Feb. 15, 1995
Publication date： Aug. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 膨潤、副反応を起こすことなく、現像廃液を生じることもなく、またバッチ処理が可能な新規なパターン形成方法を提供する。【構成】 露光により実質的に分子量が増大若しくは架橋反応を生ずる感光性組成物を、(1)基板上に塗布し、(2)パターン露光を行い、(3)超臨界流体を用いて未露光部部分を除去するプロセスを含む感光性樹脂組成物のパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

露光により実質的に分子量が増大もしくは架橋反応を生ずる感光性組成物を(1)基板の上に塗布し(2)パターン露光を行い(3)超臨界流体を用いて未露光部分を除去するプロセスを含むことを特徴とする感光性組成物のパターン形成方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/36

FI (4)：

H01L 21/30 569 Z ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/36