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J-GLOBAL ID：200903026139046999

シルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体

Inventor： 森本 芳孝 ,  伊藤 賢哉 ,  及川 尚夫 ,  山廣 幹夫 ,  渡辺 健一 ,  大竹 伸昌
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003129349
Publication number (International publication number)：2004123698
Application date： May. 07, 2003
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：

【課題】官能基を有するシルセスキオキサン誘導体の製造方法として、Si-OHを有するシルセスキオキサン誘導体を用いる方法が知られている。しかしこの原料を製造することが容易でなく、また官能基を導入するためにクロロシランを用いると、副成塩化水素を処理しなければならなくなる。本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することである。【解決手段】式(1)で示されるケイ素化合物を用いることを特徴とする式(2)で示されるシルセスキオキサン誘導体の製造方法。式(1)において、Rは水素、アルキル、アリール、およびアリールアルキルからなる群からそれぞれ独立して選択される基であり、Mはアルカリ金属原子である。式(2)において、Rは式(1)中のRと同一の意味を有し、Xは水素、塩素、官能基または官能基を有する基である。【選択図】なし。

Claim (excerpt)：

式(1)で示されるケイ素化合物を用いることを特徴とする式(2)で示されるシルセスキオキサン誘導体の製造方法。

IPC (1)：

C07F7/21

FI (1)：

C07F7/21

F-Term (12)：

4H049VN01 ,  4H049VP08 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ12 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR31 ,  4H049VR43 ,  4H049VS15 ,  4H049VS88 ,  4H049VW02

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ORGANOSILICON COMPOUNDS, 1960, p.271-273
• 有機ケイ素化学, 19591030, 1版1刷, 243-244頁