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J-GLOBAL ID：200903026140691431

異物検査装置

Inventor： 宍戸 弘明 ,  野口 稔
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991239480
Publication number (International publication number)：1993080496
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に転写解像度の向上を図った位相シフト膜を有するレチクル等の回路パターン上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、主として光学的な簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出することができる異物検査装置を提供することにある。【構成】 斜方照明(2)により発生する散乱光をNA0.4以上の光学系(41)で試料裏面から集光し、フーリエ変換面上に設けた空間フィルタ(44)により回路パターンからの回折光を遮光し、検出器(51)上に結像させる検出光学系(4)と、検出器の検出値を照明むらに合わせて補正する回路(113)と、2×2画素の検出値の加算値を求める回路および検出器画素の周囲4方向へ1画素づつシフトした4つの加算値の最大値を求める回路(114)と、検出結果を試料上を数百画素ごとにブロック分けしたメモリへ収納する回路(112)から構成されることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

回路パターンを有する透明または半透明の基板試料上に付着した異物を、少なくとも、基板試料を照射する照明系と、照射された検査領域を検出器上に結像する光学系とを用いて検出する異物検査装置において、前記基板試料を載置してX,Y,Zの各方向へ任意に移動可能なステージおよびその駆動制御系からなる検査ステージ部と、前記基板試料の回路パターンが形成された面の表面を斜方から照射する照明系と、該照明系の照射により前記基板試料の上に発生する散乱光および回折光を、回路パターンが形成された面の裏面から前記透明または半透明の基板試料を通して光学系により集光し、該光学系のフーリエ変換面上に設けた空間フィルタにより前記回路パターンの直線部分からの回折光を遮光して検出器上に結像させる検出光学系と、前記検出器の出力をしきい値を設定した2値化回路により2値化し、前記基板試料上の異物データを演算表示する信号処理系とを備えたことを特徴とする異物検査装置。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-006443
  
• 特開昭63-268245