Pat
J-GLOBAL ID：200903026140890272

洗浄剤組成物

Inventor：
野崎 利雄

About 野崎 利雄


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社


Agent (1)： 有賀 三幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991321964
Publication number (International publication number)：1993156285
Application date： Dec. 05, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：
【要約】【構成】 次の成分(A)及び(B)を含有する洗浄剤組成物。(A)次の一般式(1)で表わされる2級アミド型N-アシルアミノ酸塩R1CONH(CH2)nCOOM1 (1)(式中、R1COは炭素数10〜16の直鎖アシル基を示し、nは1又は2の数を示し、M1はnが1のときはナトリウム、カリウム又はアルカノールアンモニウムを、nが2のときはカリウム又はアルカノールアンモニウムを示す)(B)次の一般式(2)で表わされる脂肪酸アミド誘導体【化1】【効果】 この洗浄剤組成物は起泡力が高く、皮膚、毛髪等に対して刺激性が低いだけでなく、洗浄後の泡切れ及び滑りが良く、使用感の良いものであり、特に皮膚洗浄用に好適である。
Claim (excerpt)：
次の成分(A)及び(B)(A)次の一般式(1)で表わされる2級アミド型N-アシルアミノ酸塩R1CONH(CH2)nCOOM1 (1)(式中、R1COは炭素数10〜16の直鎖アシル基を示し、nは1又は2の数を示し、M1はnが1のときはナトリウム、カリウム又はアルカノールアンモニウムを、nが2のときはカリウム又はアルカノールアンモニウムを示す)(B)次の一般式(2)で表わされる脂肪酸アミド誘導体【化1】(式中、R2は炭素数8〜20のアルキル基を示し、R3及びR4は同一又は異なって水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基又は-(C2H4O)mH基(ここでmは2〜4の数を示す)を示す)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
IPC (8)：
C11D 1/10 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/65 ,  C11D 10/04 ,  C11D 1:10 ,  C11D 1:52 ,  C11D 9:02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-002962
  • 特開昭51-031706
  • 特開昭60-092399
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM