Pat
J-GLOBAL ID:200903026145263489

ポリシラン及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小島 隆司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991273101
Publication number (International publication number):1993086199
Application date: Sep. 25, 1991
Publication date: Apr. 06, 1993
Summary:
【要約】【目的】 Si-H結合、Si-O結合を含有しない高純度のポリシランを得る。【構成】 ジハロシランをアルカリ金属の存在下に重合してポリシランを合成した後、その反応混合物にモノハロシランを該混合物が酸性になる量で加えて、上記ポリシラン中の末端をトリオルガノシリル基として封鎖することにより、下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が5,000〜2,000,000であり、Si-H結合及びSi-O結合を含有しない両末端がトリオルガノシリル基で封鎖されたポリシランを得る。【化1】(但し、R1〜R5はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、nはポリシランの重量平均分子量を5,000〜2,000,000とする数である。)
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で示され、重量平均分子量が5,000〜2,000,000であり、両末端がトリオルガノシリル基で封鎖されたポリシラン。【化1】(但し、R1〜R5はそれぞれ炭素数1〜20のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、nはポリシランの重量平均分子量を5,000〜2,000,000とする数である。)
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-263831
  • ポリシラン類の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-259748   Applicant:工業技術院長

Return to Previous Page