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J-GLOBAL ID:200903026159959478

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993191380
Publication number (International publication number):1995045508
Application date: Aug. 02, 1993
Publication date: Feb. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 露光光の強度や光軸に変動が生じても、露光画角内の露光量の補正を簡単かつ適性に修正することのできる露光装置を実現すること。【構成】 露光領域へむけて露光用光束を照射する光源と、露光領域内での露光量を均一とするために、露光領域内の部分毎に照射される露光光を制御する露光量制御手段と、を有する露光装置において、予め設定された露光画角内の鉛直方向の各点における照射時間の比率が示されたテーブルを具備し、露光量制御手段は、テーブルに示される照射時間の比率と可変な周波数に従って照射光を制御する。
Claim (excerpt):
露光領域へむけて露光用光束を照射する光源と、前記露光領域内での露光量を均一とするために、露光領域内の部分毎に照射される露光光を制御する露光量制御手段と、を有する露光装置において、予め設定された露光画角内の鉛直方向の各点における照射時間の比率が示されたテーブルを具備し、前記露光量制御手段は、前記テーブルに示される照射時間の比率と可変な周波数に従って照射光を制御することを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20

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