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J-GLOBAL ID：200903026161993993

非金属感光性酸生成剤を含む化学的に増幅されたフォトレジスト

Inventor： ブランズヴォルド、ウイリアム、ロス ,  ブライタ、グレゴリー ,  デイピュトロ、リチャード、アンソニイ ,  イトウ、ヒロシ ,  ノーズ、クリストファ、ジョン ,  ウオング、ラーニイ、ワイ-リン ,  ミウラ、ステイブ、セイイチ ,  モンテゴメリイ、メルヴィン、ワーレン ,  モーロー、ウエーン、マーチン ,  セイチデブ、ハーバンズ、スイグ ,  ウエルシ、ケヴィン、マイケル
Applicant, Patent owner： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
Agent (1)： 合田 潔 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1994511390
Publication number (International publication number)：1996501890
Application date： Oct. 29, 1993
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】紫外線、電子線およびエックス線露光装置で使用するためのレジストは、その溶解度が酸で除去可能な保護基の存在に依存する、ポリマまたは分子の組成物および上記の輻射線に当たると強酸を発生するスルホン酸前駆体を含む。好ましいスルホン酸前駆体は、N-ヒドロキシイミド類のトリフレート酸エステルまたはベンゼンスルホン酸エステルである。

Claim (excerpt)：

(a)その溶解度が酸で除去可能な保護基の存在に依存する、ポリマまたは分子組成物と、(b)輻射線に露光すると強酸を発生する、金属イオンを含まないスルホン酸前駆体と を含む、紫外線、電子線、またはエックス線露光装置で使用するためのフォトレジスト。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特公平2-027660
  
• 特開平3-206458
  
• 特開昭60-260947
  
• 特開昭61-166544
  
• 特開平2-100054