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J-GLOBAL ID：200903026172150017

複数ビーム光源装置

Inventor： 山脇 健
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991297644
Publication number (International publication number)：1993110200
Application date： Oct. 18, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体レーザと回折格子とを有する複数ビーム光源装置において、半導体レーザの雑音を低減し、また半導体レーザを正確に安定動作させる。【構成】 半導体レーザ1と該半導体レーザから出射されるレーザビームを複数ビームに分割するための回折格子3とを備えており、半導体レーザ1は半導体レーザチップ6とモニタ用受光素子8とを内蔵しており、該受光素子8により検出される光量に基づき半導体レーザチップ6の発光を制御する制御回路10を有し、更に回折格子3の入射面で反射した半導体レーザビーム4が受光素子8に入射しない様に回折格子3の入射面を光軸と垂直な面に対し角度θ傾けて配置している。7は放熱用ヒートシンクであり、2はコリメータレンズである。9は半導体レーザチップ6から受光素子8へと入射する後方出射光である。

Claim (excerpt)：

半導体レーザと該半導体レーザから出射されるレーザビームを複数ビームに分割するための回折格子とを備えている複数ビーム光源装置において、上記半導体レーザから出射されるレーザビームの進行方向と垂直な面に対し上記回折格子の入射面を傾けて配置してなることを特徴とする、複数ビーム光源装置。