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J-GLOBAL ID：200903026218032740
水素ガス分離膜
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991245430
Publication number (International publication number)：1993076738
Application date： Sep. 25, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】 混合ガス中の水素ガスを分離するための水素ガス分離膜に関する。【構成】 レーザ法又はエッチングにより孔あけ加工した金属多孔質支持体の表面に、Pdを含有する薄膜を重ね合せてなる水素ガス分離膜。金属多孔質支持体とPd薄膜との間に相互拡散を防止するバリア層を介在させることを好ましい態様とする。
Claim (excerpt)：
レーザ法又はエッチングにより孔あけ加工した金属多孔質支持体の表面に、Pdを含有する薄膜を重ね合わせてなることを特徴とする水素ガス分離膜。
IPC (3)：
B01D 71/02 500
, B23K 26/00 330
, C01B 3/56
Cited by examiner (6)
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