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J-GLOBAL ID：200903026221900019

スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 岩佐 繁之 ,  前田 勝美 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 高橋 詔男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000369872
Publication number (International publication number)：2001354669
Application date： Dec. 05, 2000
Publication date： Dec. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線、特にArFエキシマレーザ光を用いたリソグラフィ用のフォトレジスト組成物において露光光に対し透明性が高く、熱安定性の良い光酸発生剤を提供する。【解決手段】 下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物を光酸発生剤として用いる。【化1】(式中、R1はアルキレン基またはオキソ基を有するアルキレン基、またR2はオキソ基を有する直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式アルキル基、または直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式アルキル基を表す。ただし、R1、R2の少なくともどちらか一方にオキソ基を有する。また、Y-は対イオンを表す。)

Claim (excerpt)：

下記の一般式(1)【化1】(式中、R1はブチレン基、ペンチレン基、2-オキソブチレン基、または2-オキソペンチレン基を表し、R2は炭素数3から12の直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式の2-オキソアルキル基、または炭素数3から12の直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表し、R1、R2の少なくともどちらか一方は、オキソ基を有し、Y-は対イオンを表す)で表されることを特徴とするスルホニウム塩化合物。

IPC (7)：

C07D335/02 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/45 ,  C08L101/00 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (7)：

C07D335/02 ,  C07D333/46 ,  C08K 5/45 ,  C08L101/00 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  4C023JA01 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭56-152833