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J-GLOBAL ID：200903026246845306

メタルマスク及びレーザ加工法によるメタルマスクの製造方法

Inventor： 斉藤 耕一 ,  柴崎 正二
Applicant, Patent owner： 太陽化学工業株式会社
Agent (1)： 佐野 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003071561
Publication number (International publication number)：2004276435
Application date： Mar. 17, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：

【課題】印刷ペーストの印刷膜の厚み精度及び寸法精度が高く、ペースト印刷時の抜けが良好なスクリーン印刷用メタルマスク及びその容易な製造方法を提供する。【解決手段】オーステナイト系ステンレス鋼からなる薄板母材にレーザ照射による開口部を設けるとともに、その開口部の内壁面を含む薄板母材の表面にオーステナイト系ステンレス鋼とフッ素との化合物からなる改質層を設けたメタルマスク。薄板母材の表面にその改質層を酸性フッ化アンモニウム及び硝酸を主成分とする処理液で洗浄することにより形成するメタルマスクの製造方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ステンレス鋼からなる薄板母材にレーザビーム照射により前記薄板母材の一方の主面から他方の主面に貫通する開口部が形成されたメタルマスクにおいて、前記薄板母材としてオーステナイト系ステンレス鋼を用い、該薄板母材は前記レーザビーム照射により形成された開口部の内壁面を含む前記薄板母材の表面に該オーステナイト系ステンレス鋼とフッ素との化合物からなる改質層が設けられたことを特徴とするメタルマスク。

IPC (3)：

B41N1/24 ,  B41C1/055 ,  H05K3/12

FI (3)：

B41N1/24 ,  B41C1/055 511 ,  H05K3/12 610P

F-Term (20)：

2H084AA05 ,  2H084AA14 ,  2H084AA32 ,  2H084BB02 ,  2H084BB13 ,  2H084CC09 ,  2H084CC10 ,  2H114AB11 ,  2H114AB15 ,  2H114AB17 ,  2H114BA01 ,  2H114BA10 ,  2H114DA04 ,  2H114DA05 ,  2H114DA06 ,  2H114DA73 ,  5E343DD03 ,  5E343FF01 ,  5E343FF14 ,  5E343GG20