感光性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 栗宇百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003049203
Publication number (International publication number)：2004004576
Application date： Feb. 26, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】下記一般式(Z)で表される基を少なくとも2つ有する繰り返し単位(A1)を含有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂と、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R50〜R55はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または置換基を有しても良いアルキル基を表わす。ただし、R50〜R55のうち少なくとも1つはフッ素原子または少なくとも1つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基である。Rは水素原子または有機基を表わす。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(Z)で表される基を少なくとも2つ有する繰り返し単位(A1)を含有する、アルカリ可溶性又は酸の作用により分解してアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂と、 (B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有する感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 , C08F212/14 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , C08F212/14 , H01L21/30 502R

F-Term (64)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J100AA20Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AC21Q , 4J100AC22Q , 4J100AC26Q , 4J100AC27Q , 4J100AC34Q , 4J100AD07Q , 4J100AL08Q , 4J100AM02Q , 4J100AM03Q , 4J100AR11Q , 4J100AR22Q , 4J100AR32Q , 4J100BA02P , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA06P , 4J100BA06Q , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA22P , 4J100BA22Q , 4J100BA40Q , 4J100BB01P , 4J100BB01Q , 4J100BB03P , 4J100BB03Q , 4J100BB07Q , 4J100BB13Q , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100BC43Q , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100DA65 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

パターン形成材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-117688 Applicant：松下電器産業株式会社
含フッ素共重合体を用いたポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-010909 Applicant：セントラル硝子株式会社
フォトレジスト用高分子化合物、単量体化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-295012 Applicant：株式会社東芝

Show all

Return to Previous Page