Pat
J-GLOBAL ID：200903026300523433
ポリマーブレンド及びマイクロリソグラフィ用フォトレジスト組成物中でのそれらの使用
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
谷 義一
, 阿部 和夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002546914
Publication number (International publication number)：2004536327
Application date： Nov. 21, 2001
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが、線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、(c)構造:-C(Rf)(Rf’)OH(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2〜10である(CF2)nである。)を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、(d)ペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び(B)少なくとも1つの光活性成分、を含むフォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物から誘導される繰り返し単位を含むフッ素含有コポリマーであって、少なくとも1つのエチレン性不飽和化合物が多環式であることにより特徴付けられるものと、
(b)保護された酸基を含有する分岐ポリマーであって、前記ポリマーが線状主鎖セグメントに沿って化学的に結合された1つ以上の分岐セグメントを含むものと、
(c)下記構造:
-C(Rf)(Rf’)OH
(式中、Rf及びRf’が、1〜約10個の炭素原子の、同一または異なるフルオロアルキル基であるか、または一緒になってnが2から約10である(CF2)nである。)
を有する少なくとも1つのフルオロアルコール基を有するフルオロポリマーと、 (d)ペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)もしくはCX2=CY2(式中、X=FまたはCF3及びY=-H)の非晶質ビニルホモポリマーまたはペルフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)及びCX2=CY2の非晶質ビニルコポリマーと、
(e)置換または非置換ビニルエーテルから調製されたニトリル/フルオロアルコール含有ポリマーと、からなる群から選択される少なくとも2つのポリマー、及び
(B)少なくとも1つの光活性成分
を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BC23
, 2H025BC53
, 2H025BC83
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ00
, 2H025CB07
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
