Pat
J-GLOBAL ID:200903026322037214

構造体ひずみ監視方法およびその監視装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 瀧野 秀雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997261969
Publication number (International publication number):1999101617
Application date: Sep. 26, 1997
Publication date: Apr. 13, 1999
Summary:
【要約】【課題】 光ファイバを使用して容易に構造体のひずみを測定することができる構造体ひずみ監視方法およびその監視装置を提供することを目的とする。【解決手段】 光ファイバにマイクロベンドを与えたときの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセンサを用いた構造体ひずみ監視方法において、光ファイバを少なくとも1ターン以上巻いたソレノイドを備える光ファイバひずみセンサを構造体に複数個設置して、予め光ファイバひずみセンサの光損失とひずみとの関係を求めて校正曲線テーブルを作成し、構造体に設置された前記光ファイバひずみセンサにより光損失量を測定して、前記校正曲線テーブルに基づいてひずみ量を算出する構造体ひずみ監視方法である。
Claim (excerpt):
光ファイバにマイクロベンドを与えたときの導波光の伝搬損失を利用する光ファイバひずみセンサを用いた構造体ひずみ監視方法において、光ファイバを少なくとも1ターン以上巻いたソレノイドを備える光ファイバひずみセンサを構造体に複数個設置して、予め光ファイバひずみセンサの光損失とひずみとの関係を求めて校正曲線テーブルを作成し、構造体に設置された前記光ファイバひずみセンサにより光損失量を測定して、前記校正曲線テーブルに基づいてひずみ量を算出することを特徴とする構造体ひずみ監視方法。
IPC (4):
G01B 11/16 ,  G01M 11/00 ,  G02B 6/00 ,  H01L 31/12
FI (4):
G01B 11/16 Z ,  G01M 11/00 U ,  H01L 31/12 A ,  G02B 6/00 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭60-151502

Return to Previous Page