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J-GLOBAL ID：200903026344481347

水素透過用Pd合金膜及びその作製方法

Inventor： 関 務 ,  安田 勇 ,  伊藤 滋 ,  明石 和夫
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999051715
Publication number (International publication number)：2000247605
Application date： Feb. 26, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】真空蒸着装置により多孔質支持体の表面に所望、所定の組成比に制御した水素透過用Pd合金膜を得る。【解決手段】多孔質支持体の表面に形成されたPdとPdと合金化する金属とからなる水素透過用Pd合金膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面にPdを蒸発させる蒸発源とPdと合金化する金属を蒸発させる蒸発源との2つ以上の蒸発源を有する真空蒸着装置を用いて作製されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過用Pd合金膜及びその作製方法。

Claim (excerpt)：

多孔質支持体の表面に形成されたPdとPdと合金化する金属とからなる水素透過用Pd合金膜であって、該Pd合金膜が、該多孔質支持体の表面にPdを蒸発させる蒸発源とPdと合金化する金属を蒸発させる蒸発源との2つの蒸発源を有する真空蒸着装置を用いて作製されたPd合金膜であることを特徴とする水素透過用Pd合金膜。

IPC (3)：

C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500 ,  C23C 14/14

FI (3)：

C01B 3/50 ,  B01D 71/02 500 ,  C23C 14/14 D

F-Term (25)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03 ,  4D006NA31 ,  4D006PA01 ,  4D006PB19 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G040FA04 ,  4G040FB04 ,  4G040FC02 ,  4G040FD07 ,  4G040FE01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA24 ,  4K029BA22 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB04 ,  4K029DB21