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J-GLOBAL ID：200903026355225458
電気化学的フツ素化及びフツ素製造のためのアノード及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991096086
Publication number (International publication number)：1993140783
Application date： Apr. 03, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：
【要約】[構成] フッ素化合物よりなる付加的外側層を有するか又は有さない、1又はそれ以上の金属化合物の電子伝導性又は半伝導性層で被覆された金属、特にニッケルからなるアノード。[効果] このアノードを、アノードとカソードの間をフッ化水素酸を通して電流が流れる電気フッ素化又は電気化学的フッ素製造プロセスにおけるアノードとして用いたとき、腐蝕に対して高い抵抗性を示す。
Claim (excerpt)：
金属のフッ素化合物の更なる外側層を有するか又は有さない、該金属の1又はそれ以上の化合物の電子伝導性又は半伝導性の層で被覆された該金属、及び該金属への電気的接続体を有することを特徴とする電気フッ素化又は電気化学的フッ素製造のためのアノード。
IPC (2)：
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