排水処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡本啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993304176
Publication number (International publication number)：1995155773
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Jun. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】排水処理装置に関し、より詳しくは、半導体装置の製造プロセスなどで排出される排水中の窒素濃度を管理容易に低減すること。【構成】アンモニア性窒素を含む排水に酸化剤を供給し且つ紫外線を照射して該アンモニア性窒素を硝酸性窒素に変化させる酸化系機器と、前記硝酸性窒素を含む排水に還元剤を供給し且つ紫外線を照射して該排水中の窒素分をガスとして取り出す還元系機器とを含む。

Claim (excerpt)：

アンモニア性窒素を含む排水に酸化剤を供給し且つ紫外線を照射して、該アンモニア性窒素を硝酸性窒素に変化させる酸化系機器を有することを特徴とする排水処理装置。

IPC (4)：

C02F 1/70 ZAB , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/72 ZAB , C02F 1/72 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭58-216998
特開平3-229699
特開平4-071695

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